02877naa a2200217 a 450000100080000000500110000800800410001910000170006024500950007726000090017252022380018165300330241965300100245265300260246265300230248865300160251165300090252770000260253670000170256277300800257910651192009-06-04       2008    bl uuuu     u00u1 u    #d1 aROSSI, V. L.  aCrescimento e qualidade de mudas de Pinus taeda L. submetidas à poda química de raízes.  c2008  aO presente trabalho teve como objetivo avaliar os efeitos da poda química de raízes com sulfato de cobre, oxicloreto de cobre e ethefon (ácido 2-cloroetilfosfônico) sobre o crescimento e qualidade de mudas de Pinus taeda L. produzidas em tubetes. Os tratamentos à base de sulfato de cobre ou oxicloreto de cobre foram feitos nos tubetes (antes da sua utilização para preenchimento com substrato e semeadura), por meio da sua imersão em uma mistura de partes iguais de água e tinta látex comum, contendo 0, 12, 24, 36 e 48g de cobre L-1 de solução (tinta + água). O ethefon foi aplicado via aérea em mudas com 10-15cm de altura nas concentrações de 0, 50, 75, 100 e 125 mg (i.a.) L-1. Foi utilizado o delineamento em blocos ao acaso com cinco repetições. Considerando as fontes de cobre testadas, apenas o sulfato de cobre ocasionou redução significativa na massa seca total do sistema radicular, pela inibição do desenvolvimento de raízes secundárias, bem como no diâmetro do colo e na altura e massa secada parte aérea, com o aumento da dose aplicada. O incremento nas doses de sulfato de cobre ocasionou aumento maior na concentração de cobre presente no substrato em relação ao oxicloreto de cobre. O incremento nas doses de oxicloreto de cobre não causou redução na massa seca total do sistema radicular, mas promoveu aumento no número de raízes secundárias, concentradas especialmente nas porções mediana e superior do sistema radicular. O sulfato de cobre reduziu a emissão de raízes laterais, o mesmo fato não ocorrendo com o oxicloreto de cobre. Dessa forma, o incremento nas doses de oxicloreto de cobre parece apresentar efeito positivo em relação ao sulfato de cobre, já que um sistema radicular com maior número de raízes secundárias curtas é desejável visando estabelecimento das mudas a campo. O incremento nas doses de ethefon pulverizado na parte aérea das mudas ocasionou aumento significativo no acúmulo de massa seca de raiz primária e no número de raízes secundárias presentes nas porções mediana (efeito linear) e inferior (efeito quadrático) do sistema radicular. Não houve efeito de dose do ethefon sobre os demais atributos de crescimento analisados.  aÁcido 2-cloroetilfosfônico  aCobre  aCrescimento radicular  aMorfologia de muda  aPinus taeda  aPoda1 aAMARANTE, C. V. T. do1 aFLEIG, F. D.  tCiência Florestal, Santa Mariagv. 18, n. 3/4, p. 435-442, out./dez. 2008.